半導體行業的高效廢氣處理
發布時間：
2022-03-12
來源：
作者：
在高科技行業的許多生產過程中——例如蝕刻、CVD和外延工藝——都會用到關鍵氣體，產生的廢氣需要直接處理。這些被認為是溫室氣體的廢氣有毒和/或高度易燃，并且經常對生產設施和環境構成重大風險。例如，半導體行業使用全氟化碳，其全球變暖潛力極高，因此需要有效的廢氣處理。
將不同的氣體混合并輸送到晶圓廠的中央廢氣系統中可能會產生高度易燃和易爆的氣體混合物，這在過去偶爾會導致整個生產設施的全部損失。氣體中含有的顆粒也可能導致排氣堵塞。為了消除這些風險，需要在“使用點”（POU）處理工藝廢氣，從而立即減少有害廢氣。這可以通過燃燒/濕法系統、氣體洗滌器和靜電過濾器進行管理。?
?
半導體行業中大多會使用的顯影劑、清洗劑、蝕刻液、光刻膠、等溶劑中含有大量有機物成分。 在生產工藝使用過程中，這些有機溶劑大部分很容易通過揮發成為廢氣排放。 在高科技行業的許多生產過程中——例如蝕刻、CVD和外延工藝——都會用到關鍵氣體，產生的廢氣需要直接處理。這些被認為是溫室氣體的廢氣有毒和/或高度易燃，并且經常對生產設施和環境構成重大風險。例如，半導體行業使用全氟化碳，其全球變暖潛力極高，因此需要有效的廢氣處理。 總而言之，廢氣處理方面，半導體行業酸、堿廢氣一般采用相應的堿液吸收和酸液吸收進行處理， 工藝方法已非常成熟，只要適當優化相關工藝參數，能夠滿足本標準的要求，需要關注的有機廢氣的處理。目前處理有機廢氣的工藝有吸附法、吸收法、直接燃燒法、催化燃燒法、冷凝法等，吸附法采用活性炭直接吸附，凈化效果好，但是運營成本會很高；吸收法適合于溫度低、中高濃度的廢氣；直接燃燒法適合于高濃度、小風量廢氣治理；冷凝法適用于成分相 對單一、濃度高、且有一定回收價值的有機廢氣。對于半導體行業低濃度、大風量、成分復雜的有機廢氣，吸附法、吸收法、燃燒法、冷凝法均不適用，比較適用的是吸附——催化燃燒法。目前省內一些大型半導體企業已采用沸石轉輪濃縮后燃燒，該方法適用于大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理，凈化效率達到90％以上，濃縮比達20﹕1，運行費用較低，設備處理風量大，占地面積小，不產生二次污染，可持續脫附并處理污染物。根據企業實際運 行情況，有機廢氣進氣濃度在200mg/m3以上時，處理效率達到95%；200mg/m3以下時處理 后濃度控制在20mg/m3，可保證廢氣達標排放。 將不同的氣體混合并輸送到晶圓廠的中央廢氣系統中可能會產生高度易燃和易爆的氣體混合物，這在過去偶爾會導致整個生產設施的全部損失。氣體中含有的顆粒也可能導致排氣堵塞。為了消除這些風險，需要在“使用點”（POU）處理工藝廢氣，從而立即減少有害廢氣。這可以通過燃燒/濕法系統、氣體洗滌器和靜電過濾器進行管理。
高效,氣體,廢氣,處理,生產,使用,需要,易燃,設施,工藝
相關資訊
